沉積膜原理

蒸鍍膜是將某種物質蒸鍍在塑料基材上形成一層膜（薄膜）的產品統稱。用于蒸發的物質是金屬（例如鋁或二氧化硅）或氧化物。

通過將這些作為薄膜附著在薄膜表面，可以在不改變基材特性的情況下附加阻隔性、設計性等新功能。沉積方法有兩種：物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）。

PVD 是一種通過加熱或碰撞等物理反應來創建薄膜的方法，包括真空沉積和濺射等技術。另一方面，CVD是一種利用氣態原料的化學反應形成薄膜的方法，被稱為熱CVD或等離子CVD。常用的方法包括

薄膜基材為PE（聚乙烯）或PP（聚丙烯） 。）、PET（聚對苯二甲酸乙二醇酯）